[发明专利]受光元件、受光元件阵列、制造受光元件的方法以及制造受光元件阵列的方法有效
申请号: | 200980152161.X | 申请日: | 2009-07-24 |
公开(公告)号: | CN102265411A | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | 猪口康博;三浦广平;稻田博史;永井阳一 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | H01L31/10 | 分类号: | H01L31/10;H01L21/203;H01L21/205 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 陈海涛;樊卫民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种受光元件,其在近红外区域中具有灵敏度且其中易于获得良好的晶体品质,可在高准确度下容易地形成受光元件的一维或二维阵列,并能够降低暗电流;受光元件阵列;及其制造方法。所述受光元件包含III-V族化合物半导体层叠结构,所述层叠结构包含内部具有pn结15的吸收层3,其中所述吸收层具有由III-V族化合物半导体构成的多量子阱结构,所述pn结15通过将杂质元素选择性扩散到所述吸收层中而形成,且在所述吸收层中所述杂质元素的浓度为5×1016/cm3以下。 | ||
搜索关键词: | 元件 阵列 制造 方法 以及 | ||
【主权项】:
一种包含III‑V族化合物半导体层叠结构的受光元件,所述层叠结构包含内部具有pn结的吸收层,其中所述吸收层具有由III‑V族化合物半导体构成的多量子阱结构,通过将杂质元素选择性扩散到所述吸收层中而形成所述pn结,以及在所述吸收层中所述杂质元素的浓度为5×1016/cm3以下。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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