[发明专利]受光元件、受光元件阵列、制造受光元件的方法以及制造受光元件阵列的方法有效

专利信息
申请号: 200980152161.X 申请日: 2009-07-24
公开(公告)号: CN102265411A 公开(公告)日: 2011-11-30
发明(设计)人: 猪口康博;三浦广平;稻田博史;永井阳一 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: H01L31/10 分类号: H01L31/10;H01L21/203;H01L21/205
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 陈海涛;樊卫民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种受光元件,其在近红外区域中具有灵敏度且其中易于获得良好的晶体品质,可在高准确度下容易地形成受光元件的一维或二维阵列,并能够降低暗电流;受光元件阵列;及其制造方法。所述受光元件包含III-V族化合物半导体层叠结构,所述层叠结构包含内部具有pn结15的吸收层3,其中所述吸收层具有由III-V族化合物半导体构成的多量子阱结构,所述pn结15通过将杂质元素选择性扩散到所述吸收层中而形成,且在所述吸收层中所述杂质元素的浓度为5×1016/cm3以下。
搜索关键词: 元件 阵列 制造 方法 以及
【主权项】:
一种包含III‑V族化合物半导体层叠结构的受光元件,所述层叠结构包含内部具有pn结的吸收层,其中所述吸收层具有由III‑V族化合物半导体构成的多量子阱结构,通过将杂质元素选择性扩散到所述吸收层中而形成所述pn结,以及在所述吸收层中所述杂质元素的浓度为5×1016/cm3以下。
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