[发明专利]钌化合物、其制造方法、使用其制造含钌薄膜的方法、以及含钌薄膜无效

专利信息
申请号: 200980152740.4 申请日: 2009-12-21
公开(公告)号: CN102264754A 公开(公告)日: 2011-11-30
发明(设计)人: 古川泰志;大岛宪昭;河野和久;千叶洋一 申请(专利权)人: 东曹株式会社
主分类号: C07F17/02 分类号: C07F17/02;C23C16/18;H01L21/28;H01L21/285
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 孔宪静
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌,即使该化合物含有类似化合物时也可由其制造含钌薄膜;制造该含钌化合物的方法;使用所述化合物制造含钌薄膜的方法;以及含钌薄膜。从含有所述类似化合物的(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌分离出该类似化合物,由此得到所述(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌,其中该类似化合物的含量为5重量%以下。该含钌化合物用作制备薄膜的原料。
搜索关键词: 化合物 制造 方法 使用 薄膜 以及
【主权项】:
一种(2,4 二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌,其含有5重量%或更少量的一种或多种(2,4 二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌类似结构化合物。
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