[发明专利]磁隧道结叠层无效
| 申请号： | 200980154682.9 | 申请日： | 2009-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN102282620A | 公开（公告）日： | 2011-12-14 |
| 发明（设计）人： | R·韦格;F·B·曼考夫;N·D·里佐;P·G·玛泽 | 申请（专利权）人： | 艾沃思宾技术公司 |
| 主分类号： | G11C11/00 | 分类号： | G11C11/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 刘倜 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： |
一种磁隧道结结构，包括铁的层，其设置在隧道阻挡物和自由磁性元件之间，具有在10至 |
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| 搜索关键词： | 隧道 结叠层 | ||
【主权项】：
1.一种磁隧道结，包括：第一电极；与所述第一电极邻接的固定磁性元件；自由磁性元件；设置在所述固定磁性元件和所述自由磁性元件之间的隧道阻挡物；以及铁的第一层，其具有在0.5至![]()
范围内的厚度，并且设置得与所述隧道阻挡物相邻。
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