[发明专利]晶片透镜制造方法及晶片透镜制造装置有效
| 申请号： | 200980155407.9 | 申请日： | 2009-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN102292200A | 公开（公告）日： | 2011-12-21 |
| 发明（设计）人： | 藤井雄一;猿谷信弘;今井利幸 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 |
| 主分类号： | B29C39/10 | 分类号： | B29C39/10;B29C39/42;G02B3/00;B29L11/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李洋;杨林森 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种能够容易地得到高精度晶片透镜的晶片透镜制造方法以及晶片透镜制造装置。本发明的晶片透镜制造方法，是在玻璃基板的至少一个面上设光固化性树脂制透镜部的晶片透镜制造方法，包括：分配工序，在持有与透镜部光学面形状相应的负片形状面的模具上滴下光固化性树脂；转印工序，在分配工序之后，按压树脂和基板进行转印；曝光工序，在转印工序之后对树脂照射光；脱模工序，在曝光工序之后，从玻璃基板脱模模具；在分配工序、转印工序、曝光工序及脱模工序中的至少一部分中进行减压。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 透镜 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种晶片透镜制造方法，是在基板的至少一个面上设光固化性树脂制光学部件的晶片透镜制造方法，其特征在于，备有：分配工序，在持有与所述光学部件的光学面形状相应的负片形状面的模具上，滴下所述光固化性树脂；转印工序，在所述分配工序之后，按压被分配了所述光固化性树脂的所述模具和所述基板，进行转印；曝光工序，在所述转印工序之后，对所述光固化性树脂照射光；脱模工序，在所述曝光工序之后，从所述基板脱模所述模具；在所述分配工序、所述转印工序、所述曝光工序及所述脱模工序中的至少一部分中进行减压。
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