[发明专利]用于光学发射光谱分析的装置和方法有效
| 申请号： | 200980155794.6 | 申请日： | 2009-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN102301594A | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | 弗朗索瓦·樊尚;让-皮埃尔·索拉;吉尔伯特·乌塞里希 | 申请（专利权）人： | 塞莫费雪科学(埃居布朗)有限公司 |
| 主分类号： | H03K3/53 | 分类号： | H03K3/53;G01J3/443 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;王艳春 |
| 地址： | 瑞士埃*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明提供了火花发生器，产生用于光学发射光谱分析(OES)的火花，其中，火花具有电流波形，该电流波形包括第一调制部分以及相对低电流和低陡度的第二调制部分，第一调制部分包括具有可变的幅值和/或峰间持续时间的多个相对高电流和高陡度峰，第二调制部分基本上没有调制的峰。火花优选地从两个或更多个可编程电流源产生。本发明还提供了包括该火花发生器的光学发射光谱仪以及使用该火花发生器的光学发射光谱分析的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 发射光谱分析 装置 方法 | ||
【主权项】：
火花发生器，产生用于光学发射光谱分析OES的火花，所述火花从两个或更多个可编程电流源产生并且具有电流波形，所述电流波形包括第一调制部分以及相对低电流和低陡度的第二调制部分，所述第一调制部分包括具有可变的幅值和/或峰间持续时间的多个相对高电流和高陡度峰，所述第二调制部分基本上没有调制的峰。
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