[发明专利]3B族氮化物的晶体生长方法及3B族氮化物晶体有效
申请号: | 200980156873.9 | 申请日: | 2009-12-25 |
公开(公告)号: | CN102317512A | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
发明(设计)人: | 下平孝直;平尾崇行;今井克宏 | 申请(专利权)人: | 日本碍子株式会社 |
主分类号: | C30B29/38 | 分类号: | C30B29/38;C30B9/00 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 徐申民;李晓 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在使氮化镓晶体生长时,将晶种基板浸泡于含有镓和钠的混合熔液中。接着,在含氮气不含氧气的加压气氛下,以加热混合熔液的状态,使氮化镓晶体生长在晶种基板上。此时,作为搅拌混合熔液的条件,先采用第1搅拌条件,其被设定为使氮化镓晶体生长于晶种基板上以使生长面变凹凸,其后,再采用第2搅拌条件,其被设定为使氮化镓晶体生长于晶种基板上以使生长面变平滑。 | ||
搜索关键词: | 氮化物 晶体生长 方法 晶体 | ||
【主权项】:
一种3B族氮化物的晶体生长方法,将晶种基板浸泡于含有3B族金属和助熔剂的混合熔液中,在含氮气不含氧的加压气氛下,以加热的状态使3B族氮化物晶体生长在所述晶种基板上,作为搅拌所述混合熔液的条件,采用第1搅拌条件,其被设定为使生长面变凹凸,使所述3B族氮化物晶体生长,其后,作为搅拌所述混合熔液的条件,采用第2搅拌条件,其被设定为使生长面变平滑,使所述3B族氮化物晶体生长。
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