[发明专利]金属膜中高度有序的纳米孔阵列及其制作方法有效

专利信息
申请号: 200980157872.6 申请日: 2009-03-05
公开(公告)号: CN102341524A 公开(公告)日: 2012-02-01
发明(设计)人: C·帕霍尔斯基;S·昆特 申请(专利权)人: 马克思-普朗克科学促进协会
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C18/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 过晓东
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及金属膜中的高度有序的纳米孔阵列以及制作其的改进的方法,所述方法包括以下步骤:a)提供包含聚N-异丙基酰胺(聚NIPAM)的微球,所述微球选自纯的聚N-异丙基酰胺(聚NIPAM)水凝胶微球以及带有聚N-异丙基酰胺(聚NIPAM)水凝胶链的聚合物微珠或无机物微珠,b)将所述微球的水分散体涂布到基材上并干燥此分散体,由此产生非紧密堆积的有序的微球阵列,c)在所述基材上产生金属膜,d)从所述基材的表面除去所述微球,由此在基材上产生有序的纳米孔阵列,和e)任选通过选择性无电镀增加所述金属膜的厚度。
搜索关键词: 金属膜 高度 有序 纳米 阵列 及其 制作方法
【主权项】:
在基材上的金属膜中制作高度有序的纳米孔阵列的方法,其包括以下步骤:a)提供包含聚N‑异丙基酰胺(聚NIPAM)的微球,所述微球选自纯的聚N‑异丙基酰胺(聚NIPAM)水凝胶微球以及带有聚N‑异丙基酰胺(聚NIPAM)水凝胶链的聚合物微珠或无机物微珠,b)将所述微球的水分散体涂布到基材上并干燥该分散体,由此产生非紧密堆积的有序的微球阵列,c)在所述基材上产生金属膜,d)从所述基材的表面除去所述微球,由此在基材上产生有序的纳米孔阵列,和e)任选通过选择性无电镀增加所述金属膜的厚度。
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