[发明专利]透光性基体的可见光透过量增加剂和使用了该增加剂的高透光性基体的制造方法无效
| 申请号： | 200980159297.3 | 申请日： | 2009-05-01 |
| 公开（公告）号： | CN102422183A | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | 绪方四郎;松井义光 | 申请（专利权）人： | 萨斯堤那普尔科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种含有有机硅化合物和无机硅化合物的透光性基体的可见光透过量增加剂及使用该可见光透过量增加剂的高透光性基体的制造方法，本发明还涉及一种增加透光性基体的可见光透过量的方法，该方法的特征在于，在透光性基体表面形成含有有机硅化合物和无机硅化合物的层。上述可见光透过量增加剂和上述层优选进一步含有氧化钛，该氧化钛优选为金属掺杂氧化钛。根据本发明，通过不管基体的材质和形状如何均可适用的简易方法，能够使基体的反射率减小而使透过率增大，从而能够提供一种提高了光学特性的基体。 | ||
| 搜索关键词： | 透光 基体 可见光 透过 增加 使用 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种透光性基体的可见光透过量增加剂，所述可见光透过量增加剂含有有机硅化合物和无机硅化合物。
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