[发明专利]在不利条件下执行均匀的剂量注入的系统和方法有效
| 申请号： | 200980160148.9 | 申请日： | 2009-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN102460629A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 佐藤秀 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯科技公司 |
| 主分类号： | H01J37/244 | 分类号： | H01J37/244;H01J37/304;H01J37/317 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种离子注入系统(100)和相关的方法包括扫描仪，配置成将笔状离子束扫描成带状离子束(110)，和束弯曲组件(112)，配置成接收具有第一方向的带状离子束，并且将带状离子束弯曲以沿第二方向行进。系统还包括末端站，定位在束弯曲组件的下游，其中末端站(102)配置成接收沿第二方向行进的带状离子束，并且进一步配置成将工件(104)固定，离子注入所述工件内。此外，系统包括束电流测量系统(122，124，106)，位于束弯曲组件的出口开口处，并且配置成在束弯曲组件的出口开口处测量带状离子束的束电流。 | ||
| 搜索关键词： | 不利 条件下 执行 均匀 剂量 注入 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种离子注入系统，包括：束弯曲组件，配置成接收具有第一方向的带状离子束，以及将带状离子束弯曲以沿第二方向行进；末端站，定位在束弯曲组件的下游，其中末端站配置成接收沿第二方向行进的带状离子束，并且进一步配置成将工件固定，离子注入所述工件内；和束电流测量系统，位于束弯曲组件的出口开口处，以及配置成在束弯曲组件的出口开口处测量带状离子束的束电流。
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