[发明专利]具有光栅结构的平面光波导装置的制造方法有效
| 申请号： | 200980161034.6 | 申请日： | 2009-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN102483490A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 佐久间健;小川宪介;五井一宏;陈永聪;官宁;余明斌;张惠宜;卢国强 | 申请（专利权）人： | 株式会社藤仓;新加坡科技研究局 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 蔡胜有;董文国 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种制造平面光波导装置的方法，所述平面光波导装置包括芯线，其顶表面设置有沿芯线的纵向的槽部，所述槽部填充有由折射率低于所述芯线的折射率的低折射率材料制成的槽部填充体，所述方法包括：形成构成所述芯线的下部的由高折射率材料制成的高折射率材料层的第一高折射率材料层形成步骤；在所述高折射率材料层上形成由低折射率材料制成的低折射率材料层的低折射率材料层形成步骤；通过利用光刻和蚀刻来修剪所述低折射率材料层的两个侧面部分以形成所述槽部填充体的槽部填充体形成步骤；和形成构成所述芯线的上部的由高折射率材料制成的高折射率材料层以填充所述槽部填充体的侧面部分的两侧的第二高折射率材料层形成步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 光栅 结构 平面 波导 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种制造平面光波导装置的方法，所述平面光波导装置包括芯线，其顶表面设置有沿所述芯线的纵向的槽部，所述槽部填充有由折射率低于所述芯线的折射率的低折射率材料制成的槽部填充体，所述方法包括：形成构成所述芯线的下部的由高折射率材料制成的高折射率材料层的第一高折射率材料层形成步骤；在所述高折射率材料层上形成由低折射率材料制成的低折射率材料层的低折射率材料层形成步骤；通过利用光刻和蚀刻来修剪所述低折射率材料层的两个侧面部分以形成所述槽部填充体的槽部填充体形成步骤；和形成构成所述芯线的上部的由高折射率材料制成的高折射率材料层以填充所述槽部填充体的侧面部分的两侧的第二高折射率材料层形成步骤。
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