[发明专利]正作用可光致成像底部抗反射涂层有效
| 申请号： | 200980161200.2 | 申请日： | 2009-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN102483575A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | M·帕德马纳班;S·查克拉帕尼;F·M·胡里汉;宫崎真治;E·W·恩格;M·O·奈瑟 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料美国公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宓霞 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及能够通过在碱性水溶液中显影而形成图案的可光致成像抗反射涂料组合物，其包含(i)可溶于涂覆溶剂并包含发色团、交联性结构部分和任选的可断裂基团的聚合物A，该可断裂基团在酸或热条件下产生有助于所述聚合物在碱性水溶液中的溶解性的官能团；和(ii)至少一种光酸产生剂；(iii)交联剂；(iv)任选的热酸产生剂；(v)在显影之前可溶于碱性水溶液的聚合物B，其中聚合物B与聚合物A是非溶混性的并且聚合物B可溶于涂覆溶剂，和(vi)涂覆溶剂组合物，和(vii)任选的猝灭剂。本发明还涉及使所述抗反射涂层成像的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 作用 可光致 成像 底部 反射 涂层 | ||
【主权项】：
能够通过在碱性水溶液中显影而形成图案的可光致成像抗反射涂料组合物，其包含(i)可溶于涂覆溶剂并包含发色团、氟化基团、交联性结构部分和任选的可断裂基团的聚合物A，该可断裂基团在酸或热条件下产生有助于所述聚合物在碱性水溶液中的溶解性的官能团并且优选是酸或热不稳定基团；和(ii)至少一种光酸产生剂；(iii)交联剂；(iv)任选的热酸产生剂；(v)在显影之前可溶于碱性水溶液的聚合物B，其中聚合物B与聚合物A是非溶混性的并且聚合物B可溶于涂覆溶剂，和(vi)涂覆溶剂组合物，和(vii)任选的猝灭剂。
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