[发明专利]微机电系统结构,在单独的衬底上制造微机电系统组件的方法及其组合件无效
申请号: | 201010000258.3 | 申请日: | 2008-04-28 |
公开(公告)号: | CN101852914A | 公开(公告)日: | 2010-10-06 |
发明(设计)人: | 杰弗里·布莱恩·桑普塞尔;布莱恩·詹姆斯·加利;菲利普·唐·弗洛伊德 | 申请(专利权)人: | 高通MEMS科技公司 |
主分类号: | G02B26/00 | 分类号: | G02B26/00;G02B5/28 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 刘国伟 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及微机电系统结构,在单独的衬底上制造微机电系统组件的方法及其组合件,具体揭示了制造静态干涉式显示装置的方法以及由所述方法形成的装置。在一个实施例中,通过层压前部衬底与背板来制造静态干涉式显示装置,所述前部衬底和所述背板中的每一者具有预成型于其上的组件。所述前部衬底和所述背板中的至少一者,具有所选择的深度的空腔,以用于干涉式调制。通过沉积和图案化、通过压印或通过图案化和蚀刻来形成特征。所述方法不仅减少制造成本,而且还提供较高的良率。 | ||
搜索关键词: | 微机 系统 结构 单独 衬底 制造 组件 方法 及其 组合 | ||
【主权项】:
一种制造静态干涉式显示装置的方法,所述方法包括:提供第一衬底,所述第一衬底包括形成于其上的光学堆叠,所述第一衬底由大体上透明的材料形成;提供第二衬底,所述第二衬底包括形成于其上的镜面层,其中所述第一和第二衬底中的至少一者包含界定基于所述静态干涉式装置经配置以显示的图像而图案化的空腔的多个支撑结构;以及将所述第一衬底附接到所述第二衬底,其中所述光学堆叠面向所述第二衬底,其中所述镜面层面向所述第一衬底,且其中所述衬底中的一者的所述空腔面向所述衬底中的另一者,其中以下情况中的任一者:所述第一衬底包含界定所述空腔的所述多个支撑结构,其中所述光学堆叠形成于所述支撑结构的顶部上以及所述空腔的底部上,所述光学堆叠在所述支撑结构的所述顶部与所述空腔的所述底部之间是不连续的,或所述第二衬底包含界定所述空腔的所述多个支撑结构,其中所述镜面层形成于所述支撑结构的顶部上以及所述空腔的底部上,所述镜面层在所述支撑结构的所述顶部与所述空腔的所述底部之间是不连续的。
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