[发明专利]用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物及使用所述剥离剂组合物剥离光致抗蚀剂的方法有效
| 申请号： | 201010000401.9 | 申请日： | 2010-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN101794087A | 公开（公告）日： | 2010-08-04 |
| 发明（设计）人： | 闵盛晙;权赫俊;朴珉春 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 苏萌;钟守期 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光致抗蚀剂剥离剂组合物。更具体而言，通过含有一种式1表示的化合物，本发明的光致抗蚀剂剥离剂组合物具有优良的光致抗蚀剂剥离能力，并且在光致抗蚀剂的下层膜包含钼(Mo)的情形下，具有对所述光致抗蚀剂的下层膜的优良的防腐蚀效果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光致抗蚀剂 剥离 组合 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂剥离剂组合物，包含：1)一种下式1表示的化合物；及2)一种溶剂；[式1]![]()
其中R、R’和R”彼此相同或不同，且各自独立地为具有1至6个碳原子的直链亚烷基或支链亚烷基。
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