[发明专利]用于光致抗蚀剂的剥离剂组合物及剥离光致抗蚀剂的方法无效
| 申请号： | 201010000570.2 | 申请日： | 2010-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN101750917A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 朴珉春;闵盛晙;金璟晙;韩熙;高完熙 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 苏萌;钟守期 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光致抗蚀剂剥离剂组合物。更具体而言，通过包含一种基于苯并咪唑的化合物和一种基于三唑的化合物，本发明的光致抗蚀剂剥离剂组合物具有极好的光致抗蚀剂剥离能力，以及当光致抗蚀剂的下层膜含有钼(Mo)时对光致抗蚀剂的下层膜的极好的防腐蚀效果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光致抗蚀剂 剥离 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种光致抗蚀剂剥离剂组合物，包括：1)一种有机胺化合物；2)一种溶剂；及3)一种防腐蚀剂，其包含一种基于苯并咪唑的化合物和一种基于三唑的化合物。
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