[发明专利]用于表征工艺变化的系统和方法有效
| 申请号： | 201010001631.7 | 申请日： | 2010-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN101795126A | 公开（公告）日： | 2010-08-04 |
| 发明（设计）人： | 陈易纬;胡琦伟;张简维平;刘钦洲 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H03K3/03 | 分类号： | H03K3/03;H01L27/02;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京市德恒律师事务所 11306 | 代理人： | 梁永 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 提供了用于表征工艺变化的系统和方法。电路包括：多个反相器，配置为连续环路；以及多个选通门，每个选通门都连接在一对串联配置的反相器之间。每个选通门都包括：第一场效应晶体管(FET)，具有第一沟通道；以及第二FET，具有第二通道。第一通道和第二通道并联连接，并且第一FET的栅极端和第二FET的栅极端分别连接至第一控制信号和第二控制信号。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 表征 工艺 变化 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种电路，包括：多个反相器，配置为连续环路；以及多个选通门，每个选通门都连接在一对串联配置的反相器之间，每个选通门都包括：第一场效应晶体管(FET)，具有第一通道；以及第二FET，具有第二通道，其中，所述第一通道和所述第二通道并联连接，以及其中，所述第一FET的栅极端和所述第二FET的栅极端分别连接至第一控制信号和第二控制信号。
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