[发明专利]试剂调制装置、检体测定装置以及试剂调制方法有效

专利信息
申请号: 201010002042.0 申请日: 2010-01-07
公开(公告)号: CN101816906A 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: 中西利志;大久保孝一;尾黑昌彦;朝原友幸 申请(专利权)人: 希森美康株式会社
主分类号: B01F15/04 分类号: B01F15/04;G01N35/00;G01N1/38
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 许海兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种试剂调制装置、检体测定装置以及试剂调制方法,调制向测定检体的测定装置供给的试剂,其特征在于包括:第1液体存储部,存储第1液体;试剂存储部,存储所调制的试剂,该试剂包括上述第1液体和与上述第1液体不同的第2液体;第1液体废弃部,废弃存储于上述第1液体存储部中的上述第1液体;以及控制部,测量上述第1液体在上述第1液体存储部中的滞留时间,控制上述第1液体废弃部,以便在上述滞留时间达到规定时间后,废弃存储于上述第1液体存储部中的上述第1液体。
搜索关键词: 试剂 调制 装置 测定 以及 方法
【主权项】:
一种调制向测定检体的测定装置供给的试剂的试剂调制装置,其特征在于包括:第1液体存储部,存储第1液体;试剂存储部,存储所调制的试剂,该试剂包括上述第1液体和与上述第1液体不同的第2液体;第1液体废弃部,废弃存储于上述第1液体存储部中的上述第1液体;以及控制部,测量上述第1液体在上述第1液体存储部中的滞留时间,并且控制上述第1液体废弃部,以便在上述滞留时间达到规定时间后,废弃存储于上述第1液体存储部中的上述第1液体。
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