[发明专利]记录/再现方法和全息记录介质无效
| 申请号： | 201010004033.5 | 申请日： | 2010-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN101783149A | 公开（公告）日： | 2010-07-21 |
| 发明（设计）人： | 山川明郎;田中健二 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G11B7/0065 | 分类号： | G11B7/0065 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 王安武;南霆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了记录/再现方法和全息记录介质。记录/再现方法通过用作为记录/再现光的信号光和/或参照光通过物镜照射全息记录介质来执行全息图的记录/再现，所述全息记录介质具有记录层，通过信号光与参照光之间的干涉条纹来将信息记录在记录层中，所述记录/再现方法包括以下步骤：设定记录/再现光的焦点位置，使得从全息记录介质的表面到记录/再现光的焦点位置的距离大于从所述表面到记录层的下层侧表面的距离，并用其焦点位置已经被设定的记录/再现光照射包括角度选择反射层的全息记录介质，所述角度选择反射层形成在记录层下方并具有根据光入射角度的选择性光反射/透射特性。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 再现 方法 全息 介质 | ||
【主权项】：
一种记录/再现方法，其通过利用经物镜作为记录/再现光的信号光和/或参照光来照射全息记录介质来执行全息图的记录/再现，所述全息记录介质具有记录层，通过所述信号光与所述参照光之间的干涉条纹来将信息记录在所述记录层中，所述记录/再现方法包括以下步骤：设定所述记录/再现光的焦点位置，使得从所述全息记录介质的表面到所述记录/再现光的所述焦点位置的距离大于从所述表面到所述记录层的下层侧表面的距离，并利用其焦点位置已经被设定的所述记录/再现光照射包括角度选择反射层的所述全息记录介质，所述角度选择反射层形成在所述记录层下方并具有取决于光入射角度的选择性光反射/透射特性。
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