[发明专利]光照射装置和光照射方法无效
| 申请号： | 201010004039.2 | 申请日： | 2010-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN101783150A | 公开（公告）日： | 2010-07-21 |
| 发明（设计）人： | 山川明朗;田中健二;伊藤辉将 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G11B7/125 | 分类号： | G11B7/125 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 李晓冬;南霆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了光照射装置和光照射方法。所述光照射装置包括：光源，其允许光照射具有记录层和位于该记录层上层侧的覆盖层的全息记录介质，在所述记录层和通过信号光和参考光的干涉带记录信息；空间光调制器，其对来自所述光源的光执行空间光调制，以生成所述信号光和/或参考光；以及光照射单元，其允许受到所述空间光调制器的空间光调制的光作为记录/再现光通过物镜照射所述全息记录介质，其中，所述记录/再现光的聚焦位置被设置为使得从所述全息记录介质的表面到所述记录/再现光的聚焦位置的距离小于从所述表面到所述记录层的下层侧表面的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种光照射装置，包括：光源，其允许光照射具有记录层和位于该记录层上层侧的覆盖层的全息记录介质，在所述记录层中通过信号光和参考光的干涉带而记录了信息；空间光调制器，其对来自所述光源的光执行空间光调制，以生成所述信号光和/或参考光；以及光照射单元，其允许经所述空间光调制器空间光调制的光作为记录/再现光通过物镜照射所述全息记录介质，其中，所述记录/再现光的聚焦位置被设置为使得从所述全息记录介质的表面到所述记录/再现光的聚焦位置的距离小于从所述表面到所述记录层的下层侧表面的距离。
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