[发明专利]气密性容器和图像显示装置的制造方法无效

专利信息
申请号: 201010005416.4 申请日: 2010-01-19
公开(公告)号: CN101789345A 公开(公告)日: 2010-07-28
发明(设计)人: 上口欣也;中泽友则;川濑俊光;伊藤靖浩;长谷川光利;中西宏一郎;小柳和夫 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H01J9/00 分类号: H01J9/00;H01J9/26;H01J9/40
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 史雁鸣
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在包括利用盖密封通孔的气密性容器的制造方法中,确保密封性能并抑制密封剂流入通孔。所述方法包括以下工序:(a)通过设置在容器上的通孔将容器内部排气;(b)在内部已经被排气的容器的外表面上配置板构件,以便将该通孔封闭,所述板构件在其周边具有在板厚度方向上贯穿所述板构件的槽;以及(c)以经由密封剂覆盖板构件的方式配置盖构件,并且经由密封剂将盖构件和容器的外表面接合,其中,密封工序包括:在随着用盖构件推压板构件而使密封剂变形、使得密封剂经由所述槽位于盖构件与容器的外表面之间之后,将密封剂硬化。
搜索关键词: 气密性 容器 图像 显示装置 制造 方法
【主权项】:
一种气密性容器的制造方法,包括:通过设置在容器上的通孔将容器的内部排气;在内部已经被排气的容器的外表面上配置板构件,以便将该通孔封闭,所述板构件在其周边具有在板厚度方向上贯穿该板构件的槽;以及通过以经由密封剂覆盖板构件的方式配置盖构件、并且经由密封剂将所配置的盖构件和容器的外表面接合,将容器密封,其中,密封工序包括:在随着用盖构件推压板构件而使密封剂变形、使得密封剂经由所述槽位于盖构件与容器的外表面之间之后,将密封剂硬化。
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