[发明专利]高纯二氧化氯溶液制备方法及其制备装置无效
申请号: | 201010011523.8 | 申请日: | 2010-01-08 |
公开(公告)号: | CN101774546A | 公开(公告)日: | 2010-07-14 |
发明(设计)人: | 闫云涛;杨忠;吕龙;王秋瑜 | 申请(专利权)人: | 闫云涛 |
主分类号: | C01B11/02 | 分类号: | C01B11/02 |
代理公司: | 济南舜源专利事务所有限公司 37205 | 代理人: | 苗峻 |
地址: | 250061山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种高纯二氧化氯溶液制备方法及其制备装置。其制备方法包括反应生成二氧化氯气体的反应过程,反应过程中产生的二氧化氯气体被抽送至内部带有若干细管的吸收装置,被由自上而下通过该吸收装置内的细管的液体在细管壁产生的水膜吸收,得到的二氧化氯溶液进行贮液;反应过程中产生的残液排出反应釜。利用该方法能制得高浓度、高纯度的二氧化氯溶液。其制备装置包括反应釜,气体吸收装置,溶液储罐,所述气体吸收装置内有上、中、下三个空腔,中间空腔内设有若干连通上下两个空腔的细管,下部空腔设有尾气排放口和与溶液储罐连通的排液口,上部空腔设有液体入口和与反应釜的气体出口连通的气体入口,设有抽气泵与气体吸收装置连接。 | ||
搜索关键词: | 高纯 氧化 溶液 制备 方法 及其 装置 | ||
【主权项】:
一种高纯二氧化氯溶液制备方法,包括反应生成二氧化氯气体的反应过程,其特征是:反应过程中产生的二氧化氯气体被抽送至内部带有若干细管的吸收装置,被由自上而下通过该吸收装置内的细管的液体在细管壁产生的水膜吸收,得到的二氧化氯溶液进行贮液;反应过程中产生的残液排出反应釜。
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