[发明专利]一种扫描光刻机掩模台位置测量装置无效
| 申请号： | 201010022407.6 | 申请日： | 2010-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN102117016A | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | 齐芊枫;李志龙;李正贤 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种扫描光刻机掩模台位置测量装置，包括X向测量镜、Y向测量镜和Z向测量镜，其中，Z向测量镜包括两个垂向平面反射镜和三个垂向45度反射镜，其特征在于，两个垂向平面反射镜被安装于不运动的镜头上，而三个垂向45度反射镜被安装于可运动的承版台上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 扫描 光刻 机掩模台 位置 测量 装置 | ||
【主权项】：
一种扫描光刻机掩模台位置测量装置，用于光刻设备中，光刻设备包括镜头和承版台，所述扫描光刻机掩模台位置测量装置包括X向测量镜、Y向测量镜和Z向测量镜，其中，Z向测量镜包括两个垂向平面反射镜和三个垂向45度反射镜，其特征在于，两个垂向平面反射镜被安装于镜头上，而三个垂向45度反射镜被安装于承版台上。
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