[发明专利]集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积方法及设备

摘要

集成原子层沉积技术的金属有机物化学气相沉积方法及设备，在金属有机物化学气相沉积过程中，通过脉冲喷射的方式引入化学反应气源，化学反应源气体和载气分别通过交替开关的气动阀，以脉冲方式喷射到衬底生长表面。至少包含一次生长循环，步骤为：1.化学反应源气体通过气动阀进行常规化学气相沉积工艺；2.化学反应源气体和载气经交替开启和关闭的气动阀对衬底脉冲喷射，原子层沉积生长；3.判断沉积生长是否完成，未完成进入下一轮沉积循环。本发明的优点是克服现有的金属有机物化学气相沉积方法无法精确控制纳米级膜厚及组分等缺点，突破原子层沉积工艺中生长速度低的限制，实现现有金属有机物化学气相沉积设备无法达到超陡峭薄膜界面结构。

主权项

一种集成有原子层沉积工艺的金属有机物化学气相沉积方法，其特征在于：在金属有机物化学气相沉积工艺过程中，通过脉冲喷射流量的方式引入化学反应源气体物质，该方法至少包含一次下述循环，所述循环包括下述步骤：1)化学反应源气体经气动阀进入反应腔对衬底进行金属有机物化学气相沉积外延生长，此时载气经另一组常开气动阀与尾气管路连接；2)化学反应源气体和载气经交替开启和关闭的气动阀对衬底进行脉冲喷射，进行原子层沉积生长；3)判断沉积生长是否完成，未完成进入下一轮沉积循环。