[发明专利]自检校POS直接对地目标定位方法有效

专利信息
申请号: 201010029010.X 申请日: 2010-01-18
公开(公告)号: CN101750619A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 袁修孝;张雪萍 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: G01S19/40 分类号: G01S19/40;G01C21/16;G01C25/00;G01C11/00
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 张火春
地址: 430072*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种自检校POS直接对地目标定位方法,首先从直接对地目标定位的基本原理出发,推导影像外方位元素误差与目标点位误差的理论关系式,据此构建POS系统误差补偿模型;然后将该模型引入基于共线条件的多片空间前方交会严密方程中,构建自检校POS直接对地目标定位的严格平差模型,最后利用最小二乘平差原理同时解求附加参数和待定点的三维地面坐标,实现带附加参数的自检校POS直接对地目标定位。本发明所实现自检校POS直接对地目标定位的精度完全可以满足航测地形测图的碎部点精度要求,避免了使用POS系统须设立专门检校场的繁琐检校,大大降低了航空摄影的技术难度、节省了航空摄影测量成本,并为减小重建立体模型的上下视差提供一种有效方法。
搜索关键词: 自检 pos 直接 目标 定位 方法
【主权项】:
一种自检校POS直接对地目标定位方法,其特征在于:包括以下步骤,步骤1,从共线条件方程出发导出影像外方位元素误差与目标点位误差的理论关系式,据此理论关系式构建POS系统误差补偿模型;步骤2,将该POS系统误差补偿模型引入基于共线条件的多片空间前方交会严密方程中,构建自检校POS直接对地目标定位的严格平差模型;步骤3,利用最小二乘平差原理同时解求附加参数和待定点的三维地面坐标,实现带附加参数的自检校POS直接对地目标定位。
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