[发明专利]一种双层结构MCrAlY粘结层及其制备方法无效
申请号: | 201010100476.4 | 申请日: | 2010-01-22 |
公开(公告)号: | CN101791893A | 公开(公告)日: | 2010-08-04 |
发明(设计)人: | 宫声凯;王娟;彭徽;郭洪波;徐惠彬 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | B32B33/00 | 分类号: | B32B33/00;B32B15/01;C23C14/30 |
代理公司: | 北京永创新实专利事务所 11121 | 代理人: | 官汉增 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种双层结构MCrAlY粘结层及其制备方法,采用等离子体辅助电子束物理气相沉积技术,制备涂层结构为:底层是5~20μm厚,晶粒度为20~50μm择优生长的等轴晶结构的低铝(3~5wt.%)MCrAlY层;上层为20~100μm厚,晶粒度小于1μm的柱状晶结构高铝(8~12wt.%)MCrAlY层。这种双层结构可以降低MCrAlY涂层与高温合金基体之间的元素互扩散,因而涂层抗高温氧化性能更佳,并可以抑制定向凝固高温合金及单晶高温合金等的因沉积抗氧化涂层引起的再结晶及TCP相析出和二次反应区(SRZ)的形成。 | ||
搜索关键词: | 一种 双层 结构 mcraly 粘结 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种双层结构MCrAlY粘结层,其特征在于:所述的粘结层包括底层和上层,所述的底层为择优生长的等轴晶结构MCrAlY层,厚度5~20μm,晶粒度为20~50μm;所述的上层为柱状晶结构MCrAlY层,厚度20~100μm,晶粒度小于1μm,其中M为Ni、或Co、或Ni+Co。
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