[发明专利]等离子弧光氮化涂层复合设备及氮化涂层连续工艺无效
| 申请号： | 201010101101.X | 申请日： | 2010-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN102134706A | 公开（公告）日： | 2011-07-27 |
| 发明（设计）人： | 于宝海;于传跃;盛重春;陈子宇 | 申请（专利权）人： | 沈阳华俄科技发展有限公司;沈阳金锋特种刀具有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C8/36 |
| 代理公司： | 沈阳科威专利代理有限责任公司 21101 | 代理人： | 王勇 |
| 地址： | 110165 辽宁省沈阳市沈*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种等离子弧光氮化涂层复合设备及氮化涂层连续工艺，所要解决的问题是：辉光离子氮化的工件表面有轻微氧化且氮化时间长，会影响超硬膜的结合力和涂层质量，加工时间延长。本发明的要点是：等离子弧光氮化装置的阴极筒设置在真空室的上面，且与真空室连通，聚焦线圈设置在阴极筒的外面，气体混合室的出口和热丝伸入阴极筒里，等离子弧光电源上的转换开关的阳极和阴极分别接在真空室壁和阴极筒上，转换开关的另一阴极接在涂层装置的阴极弧光靶上。本发明的效果是：氮化涂层连续进行，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 弧光 氮化 涂层 复合 设备 连续 工艺 | ||
【主权项】：
一种等离子弧光氮化涂层复合设备，它包括涂层装置，涂层装置包括真空室和阴极弧光靶，其特征是：在真空室的上面设有等离子弧光氮化装置，具体是等离子弧光氮化装置的阴极筒设置在真空室的上面，且与真空室连通，聚焦磁场线圈设置在阴极筒的外面，气体混合室的出口和热丝伸入阴极筒里，阴极筒有密封上盖，等离子弧光电源上的转换开关的阳极和阴极分别接在真空室壁和阴极筒上，转换开关的另一阴极接在涂层装置的阴极弧光靶上。
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