[发明专利]通过添加氧族合金元素提高铜抗腐蚀能力的方法无效
申请号: | 201010101728.5 | 申请日: | 2010-01-28 |
公开(公告)号: | CN101775509A | 公开(公告)日: | 2010-07-14 |
发明(设计)人: | 朱永福;吕海波;李建忱;文子;赵明;蒋青 | 申请(专利权)人: | 吉林大学 |
主分类号: | C22C1/02 | 分类号: | C22C1/02;C22C9/00;C22F1/08 |
代理公司: | 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 | 代理人: | 王立文 |
地址: | 130012吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及一种通过添加氧族合金元素提高铜抗腐蚀能力的方法。是将S、Se、Te分别与Cu混合;在电弧炉中反复熔炼,制成Cu-S、Cu-Se或Cu-Te合金;并在加热炉中退火、保温一定时间,冷却至室温,制备成抗腐蚀铜。铜被腐蚀后表面被针状的晶须覆盖,晶须密度高,添加了合金元素后,合金元素就会部分替代氧进入到铜的氧化物晶格中,减弱了铜空位的形成能力,阻碍了铜的晶格扩散,提高了表面氧化铜的保护能力,使合金铜的抗腐蚀能力强于纯铜。充分利用铜冶炼过程中残留的Se和Te,既能提高铜的抗腐蚀能力,又能降低生产成本。现有的集成电路中封装材料的封装温度低于673K,使用Cu-Se、Cu-Te合金作引线框架材料不仅提高了封装材料的抗腐蚀能力,还降低了封装成本。 | ||
搜索关键词: | 通过 添加 合金 元素 提高 腐蚀 能力 方法 | ||
【主权项】:
一种通过添加氧族合金元素提高铜抗腐蚀能力的方法,其特征在于,包括以下顺序和步骤:a、将0.05-0.5wt.%纯度99.99wt.%的氧族合金元素分别与99.5-99.95wt.%的纯度为99.99wt.%的纯Cu混合;b、将分别混合后的物料分别置于电弧炉中,然后将炉体抽真空,通入高纯氩气,高纯氩气通入流量为3000-6000cm3/min,气压为一个大气压;c、启动电弧炉,在1133℃-1183℃通过辉光放电使铜融化,反复熔炼6-8次,每次熔炼5分钟,制成Cu-S、Cu-Se或Cu-Te合金;d、将制成Cu-S、Cu-Se或Cu-Te的合金分别放入通有高纯氢气的加热炉中在400℃-700℃温度中进行退火;e、在退火温度内保温360~1440min,在通有高纯氢气的环境中冷却至室温,制备成抗腐蚀铜。
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