[发明专利]一种薄膜应力分布的监测方法有效
| 申请号： | 201010102375.0 | 申请日： | 2010-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN102141450A | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 王祯贞 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G01L1/00 | 分类号： | G01L1/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种薄膜应力分布的监测方法，通过多次形成参考薄膜得到对应的一组应力值和一组平均收缩率以绘制标准应力-收缩率关系曲线；监测待测薄膜时，在沉积工艺后和紫外线固化工艺后分别测量待测薄膜的不同位置的厚度，从而据此计算对应的收缩率以得到待测薄膜的收缩率分布，并根据该标准应力-收缩率关系曲线得到待测薄膜的应力分布；此外，根据待测薄膜的应力分布还可以得到应力分布非均匀度，这都有利于薄膜出现问题时的分析和处理。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 应力 分布 监测 方法 | ||
【主权项】：
一种薄膜应力分布的监测方法，其特征在于，包括：步骤1，通过沉积工艺和紫外线固化工艺形成参考薄膜，其中，采用曲率半径量测法测得所述参考薄膜的应力值，而且，在沉积工艺后和紫外线固化工艺后分别测得所述参考薄膜的第一平均厚度值和第二平均厚度值，并根据该第一平均厚度值和第二平均厚度值计算所述参考薄膜的平均收缩率；步骤2，改变沉积工艺和紫外线固化工艺的工艺参数后再执行步骤1，如此重复至少三次以得到对应的一组应力值和一组平均收缩率；步骤3，根据所述对应的一组应力值和一组平均收缩率绘制标准应力‑收缩率关系曲线；步骤4，监测待测薄膜时，通过沉积工艺和紫外线固化工艺形成所述待测薄膜，其中，在沉积工艺后测量所述待测薄膜的不同位置的第一厚度值，而在紫外线固化工艺后测得对应位置的第二厚度值，并根据所述不同位置的第一厚度值和第二厚度值计算对应的收缩率以得到所述待测薄膜的收缩率分布，然后依据所述标准应力‑收缩率关系曲线得到所述待测薄膜的应力值和应力分布。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司，未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010102375.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
