[发明专利]气体流路结构体以及基板处理装置

摘要

本发明提供一种提供在确保气体流路的设置空间方面不存在布局上的问题且能随着可动的电极移动、切实地供给气体的可靠性较高的气体流路结构体以及具有该气体流路结构体的基板处理装置。基板处理装置包括：对内部减压的处理室；以使配置在处理室内的对置电极相对于载置电极移动的方式支承对置电极的轴；环状的第1波纹管，在轴贯穿处理室的壁面的贯穿部处吸收对置电极相对于壁面的位移，与轴同轴状配置在轴的外周部，密封处理室内以使处理室内免受轴的周边气氛影响；与第1波纹管同轴状地配置在第1波纹管的外周部的第2波纹管，利用第1波纹管和第2波纹管形成环状的气体流路。

主权项

一种气体流路结构体，其是基板处理装置的气体流路结构体，该基板处理装置包括：能够对内部进行减压的处理室、配置在该处理室内且用于载置被处理基板的载置电极、以及与该载置电极相对地配置的对置电极，该基板处理装置对经由气体流路供给到上述载置电极和上述对置电极之间的处理气体进行激励而产生等离子体，利用该等离子体对上述被处理基板实施等离子体处理，其特征在于，该气体流路结构体包括：支承构件，其以使上述载置电极和上述对置电极中的一方能相对于另一方移动的方式，对该上述载置电极和上述对置电极中的上述一方进行支承；第1位移吸收压力隔壁，其为环状，在该支承构件贯穿上述处理室壁面的贯穿部处吸收上述电极相对于上述壁面的位移，该第1位移吸收压力隔壁与上述支承构件同轴状地配置在该支承构件的外周部，以密封上述处理室内而使该处理室内免受上述支承构件的周边气氛影响；以及第2位移吸收压力隔壁，其为环状，与该第1位移吸收压力隔壁同轴状地配置在该第1位移吸收压力隔壁的外周部；利用上述第1位移吸收压力隔壁和上述第2位移吸收压力隔壁形成环状的第1气体流路。