[发明专利]纳米复合相变材料、制备方法、及作为相变存储器的用途有效
申请号: | 201010105702.8 | 申请日: | 2010-02-04 |
公开(公告)号: | CN101783391A | 公开(公告)日: | 2010-07-21 |
发明(设计)人: | 宋三年;宋志棠 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种纳米复合相变材料、制备方法、及作为相变存储器的用途,其中,所述纳米复合相变材料包含:重量百分比为8-36%的Ta2O5、和重量百分比为64-92%的相变材料,由于相变材料与Ta2O5在纳米尺度的均匀复合,Ta2O5的存在一方面抑制了相变材料晶粒的长大,提升了材料的电阻率和晶化温度,增加了材料的热稳定性;另一方面由于晶界密度的增加,材料的热导率减小,同时Ta2O5的引入提升了材料的介电常数,有利于器件阈值电压的减小。这种新型纳米复合相变薄膜应用到存储器中,可使相变存储器件的RESET电压降低,有利于实现高密度存储,提高了相变存储器的编程过程中的加热效率,降低了其功耗,提升了数据保持能力、疲劳特性和抗辐照能力等。 | ||
搜索关键词: | 纳米 复合 相变 材料 制备 方法 作为 存储器 用途 | ||
【主权项】:
一种纳米复合相变材料,其特征在于包含:重量百分比为8-36%的Ta2O5、和重量百分比为64-92%的相变材料。
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