[发明专利]试剂调制装置以及检体分析装置有效
申请号: | 201010107174.X | 申请日: | 2010-01-29 |
公开(公告)号: | CN101846691A | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | C·施米德 | 申请(专利权)人: | 希森美康株式会社 |
主分类号: | G01N35/10 | 分类号: | G01N35/10;G01R27/22;G01N27/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 崔成哲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种试剂调制装置,该试剂调制装置能够与检体测定部连接,所述检体测定部利用由该试剂调制装置调制出的稀释试剂测定检体,该试剂调制装置包括:试剂调制部,调制含有纯水和规定试剂的稀释试剂;氢离子指数测定部,对由上述试剂调制部调制出的上述稀释试剂的氢离子指数进行测定;以及控制部,执行规定的处理,其中,上述控制部构成为,根据由上述氢离子指数测定部测定的氢离子指数来变更所执行的处理。本发明还公开了检体分析装置。 | ||
搜索关键词: | 试剂 调制 装置 以及 分析 | ||
【主权项】:
一种试剂调制装置,该试剂调制装置能够与检体测定部连接,所述检体测定部利用由该试剂调制装置调制出的稀释试剂测定检体,该试剂调制装置包括:试剂调制部,调制含有纯水和规定试剂的稀释试剂;氢离子指数测定部,对由上述试剂调制部调制出的上述稀释试剂的氢离子指数进行测定;以及控制部,执行规定的处理,其中,上述控制部构成为,根据由上述氢离子指数测定部测定的氢离子指数来变更所执行的处理。
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