[发明专利]一种钛锡酸锶薄膜的用途无效
申请号: | 201010110227.3 | 申请日: | 2010-02-20 |
公开(公告)号: | CN101800282A | 公开(公告)日: | 2010-08-11 |
发明(设计)人: | 翟继卫;周歧刚 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 许亦琳;余明伟 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种钛锡酸锶薄膜在阻变存储器中的应用。所述钛锡酸锶薄膜的化学组成为SrTi(1-x)SnxO3,其中0.01≤x≤0.25。本发明的钛锡酸锶薄膜具有优良的电阻切变特性,可作为阻变存储器的介质层。将该薄膜用于阻变存储器中,可使具有“底电极/SrTi(1-x)SnxO3薄膜/顶电极”结构的存储单元表现出优异的具有记忆效应的电脉冲诱发电阻切变性能,具有新一代非挥发性阻变存储器的特点,并且具备新一代存储器所需要的高速度,低功耗读写特性;其高电阻态与低电阻态可以保持十年以上。 | ||
搜索关键词: | 一种 钛锡酸锶 薄膜 用途 | ||
【主权项】:
钛锡酸锶薄膜在阻变存储器中的用途。
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