[发明专利]涂膜形成方法无效
| 申请号： | 201010113658.5 | 申请日： | 2010-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN101797551A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | 纸谷明;齐藤芳彦 | 申请（专利权）人： | 日本碧化学公司 |
| 主分类号： | B05D1/36 | 分类号： | B05D1/36;B05D3/02;C09D4/06 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供涂膜形成方法，其不会发生长期耐久性和耐候性等性质的降低，能够谋求涂膜固化时间的缩短，谋求涂布设备的缩小化和CO2减少。上述涂膜形成方法具有如下工序：(1)在被涂物上涂布底涂涂料；(2)在底涂层上涂布顶涂涂料；(3)在未固化涂膜上进行能量线照射；和(4)烘烤固化，其中，上述顶涂涂料含有：含羟基树脂(A)、具有不饱和键的活性能量线固化性化合物(B)和多异氰酸酯化合物(C)，上述含羟基树脂(A)的玻璃化转变温度(Tg)为-20～50℃，重均分子量为10000～30000，羟值为80～230(KOHmg/g)，以羟值基准计伯羟基/仲羟基＝30/70～80/20，上述多异氰酸酯化合物(C)的每一个分子的平均异氰酸酯基数为2.5～3.4，多异氰酸酯化合物(C)的异氰酸酯基与含羟基树脂(A)的羟基的当量比(NCO/OH)为1.2～3.0，以重量比计((A)+(C))/(B)＝90/10～50/50。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种涂膜形成方法，其具有如下工序：(1)在被涂物上涂布底涂涂料的工序；(2)在通过所述工序(1)形成的底涂层上涂布顶涂涂料的工序；(3)在通过所述工序(1)、(2)形成的未固化涂膜上进行能量线照射的工序；和(4)在所述工序(3)后烘烤固化的工序，其特征在于，所述顶涂涂料含有：含羟基树脂(A)、具有不饱和键的活性能量线固化性化合物(B)和多异氰酸酯化合物(C)，所述含羟基树脂(A)的玻璃化转变温度(Tg)为-20℃～50℃，重均分子量为10000～30000，羟值为80～230(KOHmg/g)，以羟值基准计，伯羟基与仲羟基的比为伯羟基/仲羟基＝30/70～80/20，所述多异氰酸酯化合物(C)的每一个分子的平均异氰酸酯基数为2.5～3.4，多异氰酸酯化合物(C)的异氰酸酯基与含羟基树脂(A)的羟基的当量比(NCO/OH)为1.2～3.0，以重量比计，(A)、(B)、(C)的混合比例为((A)+(C))/(B)＝90/10～50/50。
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