[发明专利]用于纯化含硅酸盐的氢气化钾蚀刻液的电渗析方法有效
| 申请号： | 201010114776.8 | 申请日： | 2010-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN101811760A | 公开（公告）日： | 2010-08-25 |
| 发明（设计）人： | 杨为梁;窦科帝;张广诚 | 申请（专利权）人： | 联仕电子化学材料股份有限公司;金益世股份有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/469 | 分类号： | C02F1/469;C01B33/32 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 陈红 |
| 地址： | 中国台湾台北市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种用于纯化含硅酸盐的氢气化钾蚀刻液的电渗析方法，包含：提供一反应槽，包含一阴极、一阳极、及两阳离子透析膜，且该反应槽是由该两阳离子透析膜分隔成的一阴极室、一阳极室、及一介于其间的废液处理室；将一硫酸溶液注入该阳极室中；将一氢氧化钾溶液注入该阴极室中；将一含硅酸盐的氢氧化钾蚀刻废液导入该废液处理室中；以及施加各该室一电压及一电流密度，以使钾离子自该废液处理室经由该阳离子透析膜进入该阴极室。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 纯化 硅酸盐 氢气 蚀刻 电渗析 方法 | ||
【主权项】：
一种用于纯化含硅酸盐的氢气化钾蚀刻液的电渗析方法，包含：提供一反应槽，包含一阴极、一阳极、及两阳离子透析膜，且该反应槽是由该两阳离子透析膜分隔成一阴极室、一阳极室、及一介于其间的废液处理室；将一硫酸溶液注入该阳极室中；将一氢氧化钾溶液注入该阴极室中；将一含硅酸盐的氢氧化钾蚀刻废液导入该废液处理室中；以及施加各该室一电压及一电流密度，以使钾离子自该废液处理室经由该阳离子透析膜进入该阴极室。
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