[发明专利]检验设备、光刻设备、光刻处理单元以及检验方法有效
| 申请号： | 201010116824.7 | 申请日： | 2010-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN101819384A | 公开（公告）日： | 2010-09-01 |
| 发明（设计）人： | H·A·J·克瑞姆;A·G·M·基尔斯;H·P·M·派勒曼斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种检验设备、光刻设备、光刻处理单元以及检验方法。对于角度分解光谱测量，使用具有四个扇形的照射轮廓的辐射束。第一和第三扇形被照射，而第二和第四扇形没有被照射。因此，最终的光瞳面被分成四个扇形，并且仅零级衍射图案出现在第一和第三扇形中，而仅第一级衍射图案出现在第二和第三扇形中。 | ||
| 搜索关键词： | 检验 设备 光刻 处理 单元 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种检验设备，其配置用以测量衬底的属性，所述设备包括：照射系统，其配置用以提供辐射束；辐射投影装置，其配置用以将所述辐射投影到所述衬底上；高数值孔径透镜；探测器，其配置用以探测从所述衬底的表面反射的所述辐射束并且分离地探测零衍射级和更高衍射级；其中，由所述辐射投影装置投影的辐射束的照射轮廓使得能够使用所述分离地探测的零衍射级和更高衍射级来重建标记的至少一个特征。
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