[发明专利]光刻机对准装置及其对准方法有效
| 申请号： | 201010118779.9 | 申请日： | 2010-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN102193320A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 马雨雷;张品祥;段立峰;单世宝 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种光刻机对准装置及其对准方法，该装置包括光源，准直镜，待对准的掩模，掩模上的标记，和四象限光强传感器，标记呈近十字形，关于X，Y轴对称，标记在X轴方向的长度H与在Y轴方向的长度L之间具有设定差值，标记的侧面边缘与坐标轴具有设定角度。该对准方法包括：准直镜将光源发出的光准直照射到掩模的标记上；透过标记的准直光束垂直入射到四象限光强传感器上；根据四象限光强传感器的信息计算当前掩模的X轴和Y轴坐标以及绕四象限光强传感器法线方向的旋转角度；反馈给掩模运动系统对掩模进行位置移动和旋转，完成预对准过程。本发明提出的光刻机对准装置及其对准方法，用于光刻机掩模预对准，节约掩模空间，提高掩模利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 对准 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻机对准装置，包括光源，以及所述光源传播路径上的准直镜，待对准的掩模，掩模上面的标记，和四象限光强传感器，其特征在于，所述标记呈近十字形，其分别关于X、Y轴对称，其中所述标记在X轴方向的长度H与标记在Y轴方向的长度L之间具有设定差值，所述设定差值越大，对准装置对旋转角度的测量越精确，所述标记的侧面边缘与坐标轴具有设定角度，所述设定角度用于增加旋转角度的测量范围，同时使所述四象限光强传感器的各象限输出数据远离零点，位于线性区域内。
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