[发明专利]光刻机的双工件台系统无效
| 申请号： | 201010118812.8 | 申请日： | 2010-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN101770181A | 公开（公告）日： | 2010-07-07 |
| 发明（设计）人： | 郑乐平;顾鲜红 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种光刻机的双工件台系统，其包括沿平行于X向设置的导向表面；第一硅片台和第二硅片台，其沿平行于X向和Y向从第一位置移动到第二位置；置换系统，设置成沿该导向表面移动，该置换系统包括沿平行于Y向设置的第一置换单元和第二置换单元，第一硅片台和第二硅片台各自设置于第一置换单元和第二置换单元上并在各自的第一置换单元和第二置换单元上沿平行于Y向移动，第一置换单元和第二置换单元相互对接，使第一硅片台和第二硅片台交换位置，这样的双工件台系统节约现有技术中双硅片台位置调换的时间，提高了光刻机产率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 双工 系统 | ||
【主权项】：
一种光刻机的双工件台系统，包括：沿平行于X向设置的导向表面；第一硅片台和第二硅片台，其沿平行于X向和Y向从第一位置移动到第二位置；置换系统，设置成沿该导向表面移动，其特征在于：该置换系统包括：沿平行于Y向设置的第一置换单元和第二置换单元，第一硅片台和第二硅片台各自设置于第一置换单元和第二置换单元上并在各自的第一置换单元和第二置换单元上沿平行于Y向移动，第一置换单元和第二置换单元相互对接，使第一硅片台和第二硅片台交换位置。
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