[发明专利]一种薄膜太阳电池膜系和薄膜太阳电池以及薄膜太阳电池的制造方法无效

专利信息
申请号: 201010122977.2 申请日: 2010-03-12
公开(公告)号: CN101800256A 公开(公告)日: 2010-08-11
发明(设计)人: 赵一辉 申请(专利权)人: 河南阿格斯新能源有限公司
主分类号: H01L31/042 分类号: H01L31/042;H01L31/0352;H01L31/20
代理公司: 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 代理人: 陈浩
地址: 450001 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了一种薄膜太阳电池膜系,该膜系包括一个由非晶硅p-i-n结和微晶硅p-i-n结串联设置的双结层p-i-n/p-i-n,所述微晶硅p-i-n结的p型微晶硅层设置于所述非晶硅p-i-n结的n型非晶硅层上,所述非晶硅p-i-n结的p型非晶硅层上设置有重掺杂的P+层,所述微晶硅p-i-n结的n型微晶硅层上设置有重掺杂的N+层,该膜系结构为P+/p-i-n/p-i-n/N+。本发明薄膜太阳电池的膜系光电转换率高,成本低,本发明制得的薄膜太阳电池的光电转换率达10%。
搜索关键词: 一种 薄膜 太阳电池 以及 制造 方法
【主权项】:
一种薄膜太阳电池膜系,其特征在于,该膜系包括一个由非晶硅p-i-n结和微晶硅p-i-n结串联设置的双结层p-i-n/p-i-n,所述微晶硅p-i-n结的p型微晶硅层设置于所述非晶硅p-i-n结的n型非晶硅层上,所述非晶硅p-i-n结的p型非晶硅层上设置有重掺杂的P+型非晶硅层,所述微晶硅p-i-n结的n型微晶硅层上设置有重掺杂的N+型微晶硅层,该膜系结构为P+/p-i-n/p-i-n/N+。
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