[发明专利]基板缓冲单元无效
申请号: | 201010123013.X | 申请日: | 2010-02-25 |
公开(公告)号: | CN101826448A | 公开(公告)日: | 2010-09-08 |
发明(设计)人: | 宫原昭德 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种基板缓冲单元。该基板缓冲单元使向一个方向输送的基板临时退避,能够高效率地以空气清洗缓冲空间。该基板缓冲单元将在基板输送路径中输送的基板临时收容,使基板自上述基板输送路径退避,其中,包括:箱状的壳体,其上表面开放;载置部,其用于载置从上述基板输送路径被搬入到上述壳体内的基板;箱状的架子部,其被设置成能够将上述载置部移动到从上述基板输送路径离开的规定位置;空气导入口,其设置在上述架子部的一侧面上,用于向上述载置部导入清洁空气;排气部件,其连接于上述架子部,用于抽吸该架子部内的空气而将该空气排出到上述壳体外;排气窗,其设置在上述壳体侧面的比上述架子部靠下方的位置上,用于对该壳体内的气氛进行排气。 | ||
搜索关键词: | 缓冲 单元 | ||
【主权项】:
一种基板缓冲单元,其用于对在基板输送路径中输送的基板进行临时收容,使该基板自上述基板输送路径退避,其特征在于,包括:箱状的壳体,其上表面开放;载置部,其用于载置从上述基板输送路径被搬入到上述壳体内的基板;箱状的架子部,其被设置成能够将上述载置部移动到从上述基板输送路径离开的规定位置;空气导入口,其设置在上述架子部的一侧面上,用于向上述载置部导入清洁空气;排气部件,其连接于上述架子部,用于抽吸该架子部内的空气而将该空气排出到上述壳体外;排气窗,其设置在上述壳体侧面的比上述架子部靠下方的位置上,用于对该壳体内的气氛进行排气。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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