[发明专利]一种处理光刻胶的方法和装置有效
| 申请号： | 201010124586.4 | 申请日： | 2010-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN102193341A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 王辉 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/26 | 分类号： | G03F7/26 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 董巍;顾珊 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种处理光刻胶的方法和装置，该方法包括以下步骤：准备待处理光刻胶，该待处理光刻胶中含有大尺寸的聚合物链；利用超声波对该待处理光刻胶进行处理，该超声波的频率选择在10-50KHz之间。还公开了实施上述方法的装置。通过本发明的处理光刻胶的方法和装置，达到了更简单、有效、节约的对光刻胶进行处理的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 处理 光刻 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种处理光刻胶的方法，包括以下步骤：准备待处理光刻胶，所述待处理光刻胶中含有大尺寸的聚合物链；利用超声波对所述待处理光刻胶进行处理，所述超声波的频率选择在10‑50KHz之间。
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