[发明专利]设计光掩膜版的方法有效

专利信息
申请号: 201010124698.X 申请日: 2010-03-11
公开(公告)号: CN102193306A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 张婉娟 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G03F1/14 分类号: G03F1/14
代理公司: 北京市磐华律师事务所 11336 代理人: 董巍;顾珊
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种设计光掩膜版的方法,所述方法包括:a)将初始状态的掩膜版作为目标层,并设定第一目标图案;b)在所述目标层上模拟图案的轮廓,对于小于设计规则的所述图案输出未产生模拟轮廓的错误位置;c)扩大所述错误位置的图案尺寸;d)对所述目标层再次模拟所述图案的轮廓;e)判断再次模拟的轮廓是否符合所述第一目标图案,如果所述再次模拟的轮廓不符合所述第一目标图案,则返回步骤c),直到符合所述第一目标图案为止;f)将所述第一目标图案作为光学临近修正的初始图案。本发明能够有效解决次设计规则版图上OPC模型没有足够涵盖范围的问题。
搜索关键词: 设计 光掩膜版 方法
【主权项】:
一种设计光掩膜版的方法,所述方法包括:a)将初始状态的掩膜版作为目标层,并设定第一目标图案;b)在所述目标层上模拟图案的轮廓,对于小于设计规则的所述图案输出未产生模拟轮廓的错误位置;c)扩大所述错误位置的图案尺寸;d)对所述目标层再次模拟所述图案的轮廓;e)判断再次模拟的轮廓是否符合所述第一目标图案,如果所述再次模拟的轮廓不符合所述第一目标图案,则返回步骤c),直到符合所述第一目标图案为止;f)将所述第一目标图案作为光学临近修正的初始图案。
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