[发明专利]一种水基中性清洗剂及其在GGH换热组件清洗中的应用有效
| 申请号： | 201010125326.9 | 申请日： | 2010-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN101914416A | 公开（公告）日： | 2010-12-15 |
| 发明（设计）人： | 常立;王天仁;林健;谢爱军;芦洪涛 | 申请（专利权）人： | 上海立昌环境工程有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/36 | 分类号： | C11D7/36;C11D7/26;C11D7/32;C11D7/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200135 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种水基中性的清洗剂，尤其是用于清洗GGH换热组件，克服了传统机械清洗和酸碱化学清洗的缺陷。对搪瓷元件及烟道材料安全无腐蚀，清洗速度快、效率高；清洗工艺方便简单。将有机羧酸酸盐、有机磷酸盐、还原剂、助洗剂按一定比例复配成的中性清洗剂，其质量百分比组成为：有机羧酸盐20.0～40.0％；有机磷酸盐1.4～8.0％；还原剂0.5～2.0；助洗剂0～1.0，水49.0～78.1％，混合溶液呈中性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 中性 洗剂 及其 ggh 组件 清洗 中的 应用 | ||
【主权项】：
一种水基中性清洗剂，其特征在于由有机羧酸盐、有机膦酸盐、还原剂、助洗剂组成，其质量百分比组成为：有机羧酸盐20.0～40.0％；有机膦酸盐1.4～8.0％；还原剂0.5～2.0；助洗剂0～1.0，水49.0～78.1％。
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