[发明专利]基于磁光非互易特性的MZ干涉结构的电流传感器无效

专利信息
申请号: 201010127829.X 申请日: 2010-03-19
公开(公告)号: CN101806824A 公开(公告)日: 2010-08-18
发明(设计)人: 姜国敏;江晓清;陈瑞宜;杨建义;郝寅雷;王明华 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G01R19/00 分类号: G01R19/00;G01D3/032
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 林怀禹
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于磁光非互易特性的MZ干涉结构的电流传感器。它基于MZ干涉结构,由两个干涉臂分别连接分束器和合束器而成;在两根弯绕的光纤干涉臂中分别植入磁光材料覆盖层,两片磁光材料覆盖层植入的位置要保证光的传输方向平行相反。把非互易相移引入MZ结构,光在两光纤干涉臂传播产生的相位差是非互易、推挽方式工作的,受周围环境等因素(如温度、应力等)产生的互易相移量通过MZ干涉结构抵消。利用磁光材料的非互易特性,结合MZ结构的干涉特性,通过对结构参数的优化,可以实现高稳定性、高灵敏度的电流探测。本发明具有结构通俗,工艺简单,设计灵活,功能性强等特点,在对复杂环境下电流传感有广泛的应用前景和应用价值。
搜索关键词: 基于 磁光非互易 特性 mz 干涉 结构 电流传感器
【主权项】:
一种基于磁光非互易特性的MZ干涉结构的电流传感器,它基于MZ干涉结构,由两个干涉臂分别连接分束器和合束器而成;其特征在于:在两根弯绕的光纤干涉臂中分别植入磁光材料覆盖层,两磁光材料覆盖层植入的位置要保证光的传输方向平行相反。
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