[发明专利]n型ZnO和p型GaN组合ZnO基垂直腔面发射激光器及制备方法无效
申请号: | 201010128998.5 | 申请日: | 2010-03-18 |
公开(公告)号: | CN102195234A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 杜国同;梁红伟;夏晓川;赵旺 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183;H01S5/06 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 侯明远 |
地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种n型ZnO和p型GaN组合ZnO基垂直腔面发射激光器及制备方法,属于半导体发光器件及其制备方法技术领域。激光器件由衬底1,p型GaN外延层2,外延层2上制备的相互分立的电流下限制层3和下电极5,电流下限制层3上制备的n型ZnO基材料发光层4,上电极6等部件构成,其特征是在衬底1和p型GaN外延层2之间生长制备多层AlGaN/GaN薄膜DBR下反射镜8,n型ZnO发光层4上而制备一层n型宽带隙ZnO基三元系材料电流上限制层7,再在电流上限制层7上制备相互分立的上电极6和多层介质薄膜DBR上反射镜9。本发明的效果和益处是有可控谐振腔,可以提高器件输出功率,使激光的方向变好,进一步拓展了器件的应用范围。 | ||
搜索关键词: | zno gan 组合 垂直 发射 激光器 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种n型ZnO和p型GaN组合ZnO基垂直腔面发射激光器,由衬底(1),p型GaN外延层(2),外延层(2)上制备的相互分立的电流下限制层(3)和下电极(5),电流下限制层(3)上制备的n型ZnO基材料发光层(4),上电极(6)等部件构成,其特征是在衬底(1)和p型GaN外延层(2)之间生长制备多层AlGaN/GaN薄膜DBR下反射镜(8),n型ZnO发光层(4)上面制备一层n型宽带隙ZnO基三元系材料电流上限制层(7),再在电流上限制层(7)上制备相互分立的上电极(6)和多层介质薄膜DBR上反射镜(9)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学,未经大连理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010128998.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:SQL语句的数据库操作权限检测方法与系统
- 下一篇:一种降低指纹认假率的方法