[发明专利]n型ZnO和p型GaN组合ZnO基垂直腔面发射激光器及制备方法无效

专利信息
申请号: 201010128998.5 申请日: 2010-03-18
公开(公告)号: CN102195234A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 杜国同;梁红伟;夏晓川;赵旺 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/06
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 侯明远
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种n型ZnO和p型GaN组合ZnO基垂直腔面发射激光器及制备方法,属于半导体发光器件及其制备方法技术领域。激光器件由衬底1,p型GaN外延层2,外延层2上制备的相互分立的电流下限制层3和下电极5,电流下限制层3上制备的n型ZnO基材料发光层4,上电极6等部件构成,其特征是在衬底1和p型GaN外延层2之间生长制备多层AlGaN/GaN薄膜DBR下反射镜8,n型ZnO发光层4上而制备一层n型宽带隙ZnO基三元系材料电流上限制层7,再在电流上限制层7上制备相互分立的上电极6和多层介质薄膜DBR上反射镜9。本发明的效果和益处是有可控谐振腔,可以提高器件输出功率,使激光的方向变好,进一步拓展了器件的应用范围。
搜索关键词: zno gan 组合 垂直 发射 激光器 制备 方法
【主权项】:
一种n型ZnO和p型GaN组合ZnO基垂直腔面发射激光器,由衬底(1),p型GaN外延层(2),外延层(2)上制备的相互分立的电流下限制层(3)和下电极(5),电流下限制层(3)上制备的n型ZnO基材料发光层(4),上电极(6)等部件构成,其特征是在衬底(1)和p型GaN外延层(2)之间生长制备多层AlGaN/GaN薄膜DBR下反射镜(8),n型ZnO发光层(4)上面制备一层n型宽带隙ZnO基三元系材料电流上限制层(7),再在电流上限制层(7)上制备相互分立的上电极(6)和多层介质薄膜DBR上反射镜(9)。
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