[发明专利]用于FN隧穿编程及擦除的三维存储器阵列有效

专利信息
申请号: 201010129555.8 申请日: 2010-03-03
公开(公告)号: CN101901809A 公开(公告)日: 2010-12-01
发明(设计)人: 龙翔澜;施彦豪;赖二琨;李明修;吕函庭 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种三维存储单元阵列,包括半导体基体柱及位线柱的一阵列、介电电荷捕捉结构、以及排列成正交于半导体基体柱及位线柱的所述阵列的多个阶层的字符线结构。所述半导体基体柱在相对的第一及第二边具有相对应的位线柱,以提供源极端及漏极端。所述半导体基体柱在相对的第三及第四边具有第一及第二通道表面。介电电荷捕捉结构则覆盖第一及第二通道表面,以在所述三维阵列的每一阶层的每一半导体基体柱的两边提供资料储存位置。上述元件可操作成一三维与门(AND)解码的闪存。
搜索关键词: 用于 fn 编程 擦除 三维 存储器 阵列
【主权项】:
1.一种三维存储单元阵列,包括:多个三维排列的双存储单元结构,该双存储单元结构包括一半导体基体柱、位于该半导体基体柱的相对的第一及第二边的第一及第二位线柱、位于该半导体基体柱的相对的第三及第四边的介电电荷捕捉结构、排列成邻接位于该半导体基体柱的该第三边的该介电电荷捕捉结构的一第一字符线,以及排列成邻接位于该半导体基体柱的该第四边的该介电电荷捕捉结构的一第二字符线;以及一控制器,用以编程及擦除该多个双存储单元结构中的选取的存储单元,其方式为施加偏压于相对应的所述半导体基体柱与该第一及第二字符线的一以感应Fowler-Nordheim隧穿。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010129555.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top