[发明专利]用空气形成图形衬底的高效率发光二极管及其制备方法无效
| 申请号： | 201010130149.3 | 申请日： | 2010-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN101807646A | 公开（公告）日： | 2010-08-18 |
| 发明（设计）人： | 徐瑾;杨辉 | 申请（专利权）人： | 徐瑾;杨辉 |
| 主分类号： | H01L33/20 | 分类号： | H01L33/20 |
| 代理公司： | 杭州赛科专利代理事务所 33230 | 代理人： | 陈辉 |
| 地址： | 430223 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及用空气形成图形衬底的高效率发光二极管，其特征在于依次包括：衬底、衬底上空气形成的空洞及空洞上方GaN基发光二极管，用空气形成图形衬底的高效率发光二极管制备方法，其步骤为：1)在衬底上用高熔点材料制备一层薄膜；2)通过光刻，刻蚀在衬底上用高熔点材料制备图形；3)在图形衬底上制作GaN基发光二极管外延层；4)放入腐蚀溶液，通过侧向腐蚀去除GaN外延层下面的高熔点材料，形成空洞；5)制作发光二极管芯片。本发明的优点是：用空气形成的图形衬底，反射率会更高；整个工艺过程比较简单，容易控制，适用于大规模的商业生产。 | ||
| 搜索关键词： | 空气 形成 图形 衬底 高效率 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
用空气形成图形衬底的高效率发光二极管，其特征在于依次包括：衬底、衬底上空气形成的空洞及空洞上方GaN基发光二极管。
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