[发明专利]膜厚测定方法及玻璃光学元件的制造方法有效
| 申请号： | 201010132771.8 | 申请日： | 2010-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN101846498A | 公开（公告）日： | 2010-09-29 |
| 发明（设计）人： | 猪狩隆 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;C03B11/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 膜厚测定方法及玻璃光学元件的制造方法。本发明涉及形成在基体材料上的覆膜的膜厚测定方法。在本发明的方法中，改变测试用覆膜的膜厚来进行两次以上的下述处理：在对于波长λ纳米的光具有表面反射率R0的测试用基体材料上形成所述测试用覆膜，测定该测试用覆膜对于所述波长λ纳米的光的表面反射率R′，由此导出所述测试用覆膜的膜厚与表面反射率变化量(R′-R0)之间的关系式，测定膜厚测定对象的覆膜对于所述波长λ纳米的光的表面反射率R，在所述关系式中应用该表面反射率R与所述测试用基体材料的表面反射率R0的差分(R-R0)作为所述表面反射率变化量，由此求取所述膜厚测定对象的覆膜的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 测定 方法 玻璃 光学 元件 制造 | ||
【主权项】：
一种形成在基体材料上的覆膜的膜厚测定方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：改变测试用覆膜的膜厚来进行两次以上的下述处理：在对于波长λ纳米的光具有表面反射率R0的测试用基体材料上形成所述测试用覆膜，测定该测试用覆膜对于所述波长λ纳米的光的表面反射率R′，由此导出所述测试用覆膜的膜厚与表面反射率变化量(R′-R0)之间的关系式；以及测定膜厚测定对象的覆膜对于所述波长λ纳米的光的表面反射率R，在所述关系式中应用该表面反射率R与所述测试用基体材料的表面反射率R0的差分(R-R0)作为所述表面反射率变化量，由此求取所述膜厚测定对象的覆膜的厚度。
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