[发明专利]延长焦深的激光切割头无效

专利信息
申请号: 201010133087.1 申请日: 2010-03-26
公开(公告)号: CN101797666A 公开(公告)日: 2010-08-11
发明(设计)人: 周常河;余俊杰 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: B23K26/42 分类号: B23K26/42;G02B5/30
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种用于激光切割机的延长焦深的激光切割头,其构成包括沿激光入射方向依次的准直扩束透镜组、反射镜和消像差聚焦透镜,其特点在于:在所述的消像差聚焦透镜前加入一个二元相位元件,该二元相位元件与所述的消像差透镜共轴,该二元相位元件的通光孔径与所述的激光切割头的入射光瞳一致,该二元相位元件是中心对称的同心圆环的多区结构,该二元相位元件的相位自内向外依次按区0、π相间分布。本发明有利于提高这种激光切割机的切割速度和极限切割厚度,同时改善切割断面质量。对于提高激光切割机的切割速度和能量利用率,改善切割断面质量有重要的实用价值和应用前景。
搜索关键词: 延长 焦深 激光 切割
【主权项】:
一种延长焦深的激光切割头,其构成包括沿激光入射方向依次的准直扩束透镜组(2)、反射镜(3)和消像差聚焦透镜(5),其特征在于:在所述的消像差聚焦透镜(5)前加入一个二元相位元件(4),该二元相位元件(4)与消像差透镜(5)共轴,该二元相位元件(4)的通光孔径与所述的激光切割头的入射光瞳一致,该二元相位元件(4)是中心对称的同心圆环的多区结构,该二元相位元件(4)的相位自内向外依次按区0、π相间分布。
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