[发明专利]镀覆基材有效
申请号: | 201010133445.9 | 申请日: | 2006-03-13 |
公开(公告)号: | CN101942652A | 公开(公告)日: | 2011-01-12 |
发明(设计)人: | 相场玲宏;河村一三;高桥祐史 | 申请(专利权)人: | 日矿金属株式会社 |
主分类号: | C23C18/42 | 分类号: | C23C18/42 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 段承恩;刘瑞东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的是提供一种基底金属的耐蚀性优异、并且可提高焊料接合性,而且在成本方面也比现有制品有利的具有无电解镀金皮膜的基材。本发明的镀覆基材,是在基材上具有多层膜的镀覆基材,其特征在于,该多层膜包括:下层,其为无电解镀镍皮膜;中间层,其是膜厚度为0.2nm以上、小于10nm,或者重量为0.2432μg/cm2以上、小于12.160μg/cm2的置换型无电解镀钯皮膜;上层,其为无电解镀金皮膜。 | ||
搜索关键词: | 镀覆 基材 | ||
【主权项】:
一种镀覆基材,是在基材上具有多层膜的镀覆基材,其特征在于,该多层膜包括:下层,其为无电解镀镍皮膜;中间层,其是膜厚度为0.2nm以上、小于10nm,或者重量为0.2432μg/cm2以上、小于12.160μg/cm2的置换型无电解镀钯皮膜;上层,其为无电解镀金皮膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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