[发明专利]石墨烯/导电高分子复合膜及其制备方法

摘要

本发明涉及石墨烯/导电高分子复合膜及其制备方法，包括可由下述反应得到的产物：1)利用石墨，通过化学氧化方法制备氧化石墨；2)在含有单体的酸性溶液中，加入过硫酸铵氧化剂，制得导电高分子；3)将氧化石墨与导电高分子，在N-甲基吡咯烷酮中超声分散，再向其中加入还原剂，搅拌；4)将步骤3)所得溶液涂覆在基板表面成膜，洗涤，干燥；5)重复步骤4)，直到达到所需厚度。本发明已达到的技术效果：1)所形成的石墨烯/导电高分子复合膜具有良好的导电、抗静电性能，电导率为1×10-3-1×102S/cm；2)石墨烯与导电高分子的共扼结构，导致二者具有很高的相容性；3)复合膜厚度可控；4)制备方法条件简单，容易操作。

主权项

石墨烯/导电高分子复合膜，其特征在于包括可由下述反应得到的产物：1)利用石墨，通过化学氧化方法制备氧化石墨；2)在含有1-5mmol单体的酸性溶液中，加入1-5mmol的过硫酸铵为氧化剂，制得导电高分子；3)将步骤1)和步骤2)得到的氧化石墨与导电高分子按照质量比1-100∶1-100，在N-甲基吡咯烷酮中超声分散30-90分钟，再向其中加入还原剂，搅拌24-48小时；4)将步骤3)所得溶液涂覆在基板表面成膜，洗涤，干燥；5)重复步骤4)，直到达到所需厚度。