[发明专利]基于数字无掩模光刻技术的微透镜及其制作方法无效
申请号: | 201010134624.4 | 申请日: | 2010-03-29 |
公开(公告)号: | CN101833124A | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
发明(设计)人: | 高益庆;何帅;罗宁宁;龚勇清;陈敏;肖孟超;饶玉芳 | 申请(专利权)人: | 南昌航空大学 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;G03F7/20 |
代理公司: | 南昌洪达专利事务所 36111 | 代理人: | 刘凌峰 |
地址: | 330000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 一种基于数字无掩模光刻技术的微透镜,其特征是将透镜底面半径等分为若干个小微元,这些小微元的宽度和数字光刻系统中使用的数字微镜(DMD)的像素宽度成一定关系,即一个小微元宽度等于经过精缩投影物镜缩小的DMD上的一个像素宽度,或者由整数个像素的横向宽度组合而成;由于微透镜底而圆是中心对称结构,所以将每个小微元绕中心旋转一周就得到一个环带,底面圆看成是有许多个环带组成。本发明的优点是:1、避免了传统方法给制作器件带来的误差失真;2、更加接近理论设计值;3、由计算机控制图片实时变换能减小曝光时间的误差,使曝光过程自动化、简单化、高效率。 | ||
搜索关键词: | 基于 数字 无掩模 光刻 技术 透镜 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种基于数字无掩模光刻技术的微透镜,其特征是将透镜底面半径等分为若干个小微元,这些小微元的宽度和数字光刻系统中使用的数字微镜(DMD)的像素宽度成一定关系,即一个小微元宽度等于经过精缩投影物镜缩小的DMD上的一个像素宽度,或者由整数个像素的横向宽度组合而成;由于微透镜底面圆是中心对称结构,将每个小微元绕中心旋转一周就得到一个环带,底面圆看成是有许多个环带组成,小微元从小到大、从里到外排列,利用球面透镜的几何关系求出每个环带的高度,环带的高度代表了透镜表面不同位置的高度,让最里面的环带最高越向外的环带越低,按几何公式形成凸透镜的表面面型,再设计每个环带的曝光量,使得环带的高低准确地反映在光刻胶上,将高低的尺寸的差别换算成比例,由比例再换算成曝光的灰度值从而决定了曝光量。
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